型号：
JGP-450型单室磁控溅射系统
厂家：
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
功能：
主要用于纳米级的单层及多层功能膜、各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的研究开发，广泛应用于半导体行业、微电子及新材料领域。
参数：
系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
极限真空度：≤6.67×10-5 Pa (经烘烤除气后)，恢复真空时间40分钟可达到6.6×10-4 Pa（系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气）；
样品加热温度：室温～750℃；
磁控溅射配置4个溅射靶位，其中2个用于强磁材料的溅射。进样室设有反溅靶，做清洗样品用。
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