厂商：AdNaNoTek
型号：SPUTTER- duo8
主要用途：
用于高质量金属、合金、化合物薄膜的制备，用于磁性金属多层膜样品的制备等。
技术参数：
Load lock真空度：优于5E-7torr
溅射腔体背底真空：优于5E-8torr
衬底加热温度：大于800°C
靶枪数量：6靶+6靶，含4个强磁靶枪
溅射模式：直流溅射、射频溅射
薄膜沉积均匀性：±2.5% @100mm基片
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